据彭博社报道，美国商务部长霍华德·卢特尼克在近期多次会议中向ASML高层表达了担忧，称这家荷兰芯片制造商的极紫外光（EUV）光刻机——全球唯一能打印最先进半导体图案的设备——可能已经流入中国。这将严重违反自特朗普政府以来对中国销售EUV设备的出口管制规定。
这一指控非常严重。美国高级官员告诉彭博社，他们掌握ASML向中国运送EUV相关组件和运输设备的证据，但多次拒绝向彭博社或ASML本人展示这些证据。ASML则坚称中国境内不存在且从未存在过此类设备。美国商务部未回应彭博社关于是否有实际EUV设备在中国的提问。
如果你不在芯片行业，可能会觉得这事不重要，但实际上意义重大。ASML是一家大多数人未曾听说过的荷兰公司，却是全球AI芯片制造中除Nvidia和大型云服务商外最关键的企业。它生产的EUV光刻机是全球唯一能实现极紫外光刻技术的设备，这项技术用于打印定义最先进芯片的微观电路图案。
台积电制造的每一款尖端处理器——包括Nvidia和苹果芯片的代工厂——都依赖ASML的设备。ASML花费近二十年和数十亿美元开发了这项技术，目前全球没有第二家供应商。这种垄断地位使ASML成为欧洲市值最高的上市公司，市值约7000亿美元，过去一年因AI芯片需求旺盛而大幅上涨。
正因如此，关于中国是否拥有EUV设备的问题尤为重要。如果哪怕一台EUV设备流入中国，将是美国近年来为防止先进AI技术流入北京军事和工业领域而建立的出口管制体系中最严重的漏洞之一。
六周前，我曾与ASML首席执行官克里斯托夫·富凯特进行过一次访谈，彼时此事尚未曝光，我直接问及中国相关问题。
富凯特表示，ASML对每台出货设备都有跟踪记录，这些设备要么在客户处正常使用并接受监控，要么已被拆解并归还公司。他透露，公司多年前建立了内部防火墙，能够接触EUV技术、文档和培训的员工与不能接触的员工严格分开，且中国员工被安排在无法接触EUV技术的一侧。他强调，ASML能制造EUV设备的原因是80%的技术基于数十年的积累，而真正的新难题——极紫外光的产生——单独解决就花了20年。他的观点是，没有设备就无法逆向工程，中国从未拥有过EUV设备。
从商业角度看，ASML也没有理由冒险违反出口许可偷偷向中国出售EUV设备。ASML确实向中国销售旧一代深紫外（DUV）光刻机，这些设备最早出货已有十年，但富凯特表示这是有意为之，目的是保持技术代差，既能维持业务往来，又避免培养未来竞争对手。预计2026年约20%的收入来自已获许可的对华销售。若因非法销售EUV设备而失去出口许可，将使公司收入和作为欧洲最有价值垄断企业的地位面临巨大风险。
目前尚无证据证明指控不实。政府尚未公开证据，公众应保持观望态度。
在卢特尼克领导下，商务部去年底同意投入最多1.5亿美元支持xLight，一家开发下一代光源技术的初创公司，该技术被视为对ASML EUV垄断的长期挑战。xLight CEO去年曾表示，公司定位为ASML未来合作伙伴，而非竞争对手，旨在为ASML设备提供配套硬件。富凯特对这一观点持礼貌但不完全认同态度，明确表示ASML不认为需要xLight技术来保持领先。
卢特尼克为何突然对ASML施压EUV问题，目前无公开关联信息，可能完全无关。但联邦官员在监管垄断企业的同时，其机构又投资于试图改进该垄断核心技术的初创企业，这一现象值得关注。
此外，彼得·蒂尔支持的另一家初创公司Substrate，正致力于开发与EUV竞争的技术，目标比xLight更直接挑战ASML的市场地位。
彭博社指出，国会正在审议一项两党法案，拟全面禁止ASML向中国出口所有深紫外光刻设备，这类设备约占公司2026年预期收入的五分之一。该法案已于4月通过关键委员会，特朗普政府尚未对此表态。
