日本理光推出LLM应用开发平台“Dify”新授权方案

日本理光株式会社（Ricoh Japan）于2024年6月1日宣布，针对其大型语言模型（LLM）应用开发平台“Dify”，推出了两种新的授权方案：“Dify Essential”和“Dify Standard”，以满足企业在不同使用阶段和需求上的多样化选择。

“Dify Essential”授权方案适合企业在AI应用的初步尝试和验证阶段，主要面向部门内部特定业务的AI应用开发，支持小规模启动和测试。

而“Dify Standard”则面向部门级的正式应用，支持更广泛的业务需求，并为未来向全公司范围推广的“Dify Enterprise”授权方案提供升级路径。

此外，自同日开始，理光集团还将免费向采用Dify授权及相关服务的企业提供基于集团积累的丰富经验开发的Dify应用模板，助力企业更高效地构建和部署AI应用。